等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。
 

　　等離子清洗機(jī)用的耗材跟傳統(tǒng)清洗機(jī)不同，該清洗機(jī)是干法清洗，常用的工藝氣體有氧氣 (Oxygen, O2)、氬氣 (Argon, Ar)、氮?dú)?(Nitrogen, N2)、壓縮空氣 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳 (Carbon, CO2)、氫氣(hydrogen, H2)、四氟化碳(Carbon tetrafluoride, CF4)。

 

　　總體來(lái)說(shuō)，傳統(tǒng)清洗方法，盡管看起來(lái)便宜，但需要耗費(fèi)大量的能源和環(huán)境為代價(jià)。這種方法的干燥過(guò)程非常緩慢，還需要消耗大量的能源。等離子體清洗技術(shù)消除了采用濕化學(xué)方法清洗中存在的各種危險(xiǎn)，在清洗過(guò)程中也沒有廢液產(chǎn)生，傳統(tǒng)清洗技術(shù)中所使用的化學(xué)試劑會(huì)對(duì)環(huán)境造成很大的危害，等離子體輔助清洗是一種能有效替代化學(xué)清洗的技術(shù)，是一種環(huán)境友好型的清洗技術(shù)，既安全又環(huán)保。而且清洗機(jī)耗材跟傳統(tǒng)清洗方法相比簡(jiǎn)直就是微乎其微。
 

　　等離子清洗機(jī)是將氣體電離產(chǎn)生等離子體對(duì)工件進(jìn)行表面處理，無(wú)論是進(jìn)行清洗還是表面活化，為達(dá)到佳的處理效果我們會(huì)選用不同的工藝氣體。
 

　　等離子體清洗技術(shù)目前已經(jīng)被廣泛應(yīng)用在金屬、聚合物和陶瓷表面的清洗處理，對(duì)混合電路和印刷電路板表面殘留金屬物的去除，生物醫(yī)學(xué)植入材料表面的消毒和清洗，硅晶片表面的清洗和考古文物的修復(fù)清洗等領(lǐng)域。